作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-12-07
偏壓電源（Bias power supply ）是真空電弧離子鍍及其它真空物理氣相沉積設(shè)備中一個重要組件，在真空離子鍍膜中，偏壓電源的好壞對于成膜質(zhì)量起著非常關(guān)鍵的作用。
偏壓（Bias)是指在鍍膜過程中施加在基體上的負電壓。偏壓電源的正極接到真空室上，同時真空室接地，偏壓的負極接到工件上。由于大地的電壓一般認為是零電位，所以工件上的電壓習慣說負偏壓。
負偏壓的作用
1.提高真空等離子體內(nèi)帶電粒子的能量，轟擊清洗所鍍工件表面，使工件表面經(jīng)受高能粒子撞擊后得到嶄新的表層，從而提高后續(xù)沉積膜層的結(jié)合力
2.通過偏壓轟擊，在膜層與基體之間生成一層與二者均相容的過渡金屬層，以便于膜層與基體結(jié)合。
3.靠不同的電壓輸出極性或方式改變沉積規(guī)則，調(diào)整膜層顏色與性能。
4.通過帶電離子的轟擊，對基片產(chǎn)生加熱效應(yīng)。
5.清除基片上吸附的氣體和油污等，有利于提高膜層結(jié)合強度。
6.活化基體表面。
7.對電弧離子鍍（Arc Ion Plating)中的大顆粒有凈化作用。
英能電氣致力于真空鍍膜機電源的研發(fā)和生產(chǎn)，確保鍍膜過程中電壓電流的穩(wěn)定性，鍍膜效率高。因客戶需求不同，具體情況分別面對，如您有相關(guān)需求，赽快聯(lián)系小編免費試用吧！180 2690 9337（微信同號）
