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單極性脈沖磁控濺射電源

電弧反應(yīng)靈敏,提高鍍膜效率

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離子源電源

操作容易、制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準(zhǔn)確控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生長(zhǎng)機(jī)理比較簡(jiǎn)單

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正弦波中頻磁控濺射電源

平衡靶材濺射速率，節(jié)省靶材成本，具備普通中頻電源所有功能，鍍膜質(zhì)量及均勻性均有所上升。

方波中頻磁控濺射電源

鍍膜速度提升20%以上，可調(diào)方波，具備普通中頻電源所有功能

中頻磁控濺射電源

膜層致密、光潔度較好,增加離化率

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直流磁控濺射電源

? 輸出穩(wěn)定，精度高，效率高

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PECVD電源

用于PECVD鍍膜

離子加速電源

用于鍍膜時(shí)的離子加速

離子滲電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

HIPIMS高功率脈沖磁控濺射電源

?繞射性優(yōu)異，抗腐蝕、耐磨損

單極性脈沖偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

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直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

單極性脈沖偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

雙極性脈沖偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

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弧電源

無(wú)源觸點(diǎn)引弧方式，電弧反應(yīng)靈敏

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HIPIMS高功率脈沖磁控濺射電源

?繞射性優(yōu)異，抗腐蝕、耐磨損

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直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

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陽(yáng)極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

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1-10KW 20-60KW 60-120KW

陽(yáng)極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

正弦波中頻磁控濺射電源

平衡靶材濺射速率，節(jié)省靶材成本，具備普通中頻電源所有功能，鍍膜質(zhì)量及均勻性均有所上升。

方波中頻磁控濺射電源

鍍膜速度提升20%以上，可調(diào)方波，具備普通中頻電源所有功能

離子源電源

操作容易、制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準(zhǔn)確控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生長(zhǎng)機(jī)理比較簡(jiǎn)單

弧電源

無(wú)源觸點(diǎn)引弧方式，電弧反應(yīng)靈敏

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PECVD電源

用于PECVD鍍膜

離子加速電源

用于鍍膜時(shí)的離子加速

離子滲電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

陽(yáng)極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

直流偏壓電源

改善膜層質(zhì)量，抑制工件表面異常放電

正弦波中頻磁控濺射電源

平衡靶材濺射速率，節(jié)省靶材成本，具備普通中頻電源所有功能，鍍膜質(zhì)量及均勻性均有所上升。

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PECVD電源

用于PECVD鍍膜

離子加速電源

用于鍍膜時(shí)的離子加速

離子滲電源

改善膜層質(zhì)量，提高膜層均勻性

陽(yáng)極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

正弦波中頻磁控濺射電源

平衡靶材濺射速率，節(jié)省靶材成本，具備普通中頻電源所有功能，鍍膜質(zhì)量及均勻性均有所上升。

方波中頻磁控濺射電源

鍍膜速度提升20%以上，可調(diào)方波，具備普通中頻電源所有功能

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離子鍍膜離子滲裝飾鍍膜工具鍍膜蒸發(fā)鍍膜連續(xù)線鍍膜光學(xué)鍍膜等離子拋光

陽(yáng)極電源

輔助清洗工件，提高結(jié)合力

正弦波中頻磁控濺射電源

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單極性脈沖磁控濺射電源

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用于PECVD鍍膜

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用于PECVD鍍膜

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