一般真空鍍膜技術(shù)

我們了解到有很多的高新技術(shù)產(chǎn)品都采用離子鍍膜技術(shù)，什么是離子鍍膜技術(shù)呢？來了解離子鍍膜技術(shù)。離子鍍膜技術(shù)是在一般鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來，先看下一般鍍膜的過程，一般鍍膜過程就是氣態(tài)物質(zhì)沉積在零件的表面，形成固態(tài)薄膜的過程，那氣態(tài)物質(zhì)如何來呢？一種是直接通入反應(yīng)氣體，一種是把固態(tài)物質(zhì)蒸發(fā)或濺射成膜層粒子，也就是氣態(tài)物質(zhì)沉積在工件表面形成固態(tài)。

離子鍍膜技術(shù)是怎樣呢？首先也要得到氣態(tài)膜層粒子，這些氣態(tài)膜層粒子不是直接到達(dá)零件的表面形成固態(tài)薄膜，而是首先膜層粒子在真空氣體放電中被電離成膜層離子，膜層離子在工件所加負(fù)壓的吸引下高速到達(dá)零件表面，高能態(tài)膜層粒子在零件表面形成固態(tài)薄膜的過程。濺射鍍膜是氬氣在真空鍍膜中被電離，氬離子轟擊靶材得到膜層原子，廣義離子鍍膜技術(shù)就是在氣體放電中進(jìn)行鍍膜的技術(shù)都叫離子鍍膜技術(shù)。

首先來了解氣態(tài)物質(zhì)源的一般過程就是直接通入反應(yīng)氣體，以獲得氮化鈦薄膜為例，通入的氣體有四氯化鈦+氫氣+氮氣，最后生成固態(tài)物質(zhì)氮化鈦，排除氯化氫氣體，這種過程是要在1000度溫度下進(jìn)行的，也就是要在1000度溫度下通入這些氣體才能進(jìn)行熱分解，在反應(yīng)室內(nèi)1000度高溫提供了分解的能量，然后在1000度高溫工件上進(jìn)行化合獲得氮化鈦固態(tài)膜層排除尾氣，這是一個用熱源提供的鍍膜的反應(yīng)過程，是一個化學(xué)過程，熱分解熱化合的過程，所以叫化學(xué)氣象沉積，英文名叫chemical vapor deposition,簡稱CVD。

固態(tài)物質(zhì)源的一般過程，是在高真空中，將固態(tài)物質(zhì)加熱蒸發(fā)成為蒸汽1000-2000，蒸汽源在高真空中飛向工件形成薄膜，屬于物理氣相沉積，簡稱PVD，這個示意圖是真空蒸發(fā)度，下面的是蒸發(fā)源，上面的是工件，膜層材料在蒸發(fā)源中被高溫蒸發(fā)出來，在高真空中飛向工件，在工件表面形成薄膜，所以這兩種薄膜形成的過程都是靠加熱提供的能量進(jìn)行的鍍膜。

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