作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-11-16
真空鍍膜工藝應(yīng)用的廣泛，作用也很強大，但是少了磁控濺射等各種靶材的助力，真空鍍膜再厲害也是空有滿腔抱負(fù)而無處施展。
1、靶材是什么？
磁控濺射靶材是一種用濺射沉積或薄膜沉積技術(shù)制造薄膜的材料。大多數(shù)濺射靶材料是金屬元素或合金，盡管也有一些陶瓷靶材可以為各種工具制造硬化的薄涂層。
2、濺射靶材的大小
最小的靶標(biāo)直徑不到1英寸（2.5厘米），而最大的矩形靶標(biāo)的長度遠(yuǎn)超過1碼（0.9米）。一些濺射設(shè)備需要更大的濺射靶。
3、濺射靶材形狀的多樣性
濺射系統(tǒng)的設(shè)計，即進行薄膜沉積過程的機器，已經(jīng)變得更加多樣和具體。比如長圓柱體靶材，能提供額外的好處，包括更快的沉積速度、更少的熱損傷和增加的表面積，從而帶來更大的整體效用。
4、濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域
英能電氣一直致力于為真空鍍膜行業(yè)服務(wù)，產(chǎn)品涵蓋各類真空鍍膜電源，為客戶量身定制不同參數(shù)電源，詳情咨詢：18026909337（微信同號）
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