作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2022-12-13
中頻磁控濺射電源是大家都比較熟知的磁控濺射電源，但是在這之前常用的是直流磁控濺射電源和射頻電源，算得上是真空鍍膜行業(yè)的一大進(jìn)步，下面就來了解中頻電源有哪些優(yōu)勢(shì)。
磁控濺射之前是采用直流電源，靶材接負(fù)極。但是直流輝光放電的密度小，因此濺射的速率低，采用中頻電源，頻率有20KHZ，40KHZ、100KHZ，中頻電源的兩個(gè)極接兩個(gè)磁控濺射靶，放電以后，兩個(gè)極的極性迅速發(fā)生變化，是兩個(gè)靶的帶電粒子做震蕩運(yùn)動(dòng)，增加了電子與氬氣的碰撞機(jī)率，靶電流密度增大，沉積速率提高，還可以克服靶中毒獲得絕緣膜，比如氮化硅、氧化鋁。
在沉積高新技術(shù)產(chǎn)品中很多都需要鍍絕緣膜。在采用中頻電源之前，鍍絕緣膜是采用射頻電源，射頻電源的頻率是13.56MHZ，靶材是化合物靶，但是化合物的濺射速率比純金屬的速率低，另外射頻電源對(duì)人體有輻射有危害，對(duì)周圍的弱點(diǎn)儀器有干擾，必須有可靠的屏蔽措施，價(jià)格也比較歸而且功率比較小，做不了很大震蕩，鍍膜的功率也很小。采用中頻電源可以克服靶中毒，使反應(yīng)鍍膜速率加快。
綜上所述，可以了解到中頻電源的優(yōu)勢(shì)很大，針對(duì)沉積速率這個(gè)功能的應(yīng)用，英能推出的一款頻率更高的高頻中頻電源，在沉積速率和離化率方面有很大的改善。如有興趣了解來電咨詢18025476062.
