真空鍍膜電源

　　PVD真空鍍膜機(jī)是一種復(fù)雜的設(shè)備，其各個(gè)部件在鍍膜過程中都起著關(guān)鍵的作用。以下是PVD真空鍍膜機(jī)的主要部件及其功能分析：

　　真空腔體：

　　功能：鍍膜過程需要在高真空條件下進(jìn)行，真空腔體是保持腔體內(nèi)高真空狀態(tài)的關(guān)鍵部分。

　　構(gòu)造：通常由不銹鋼或其他耐腐蝕材料制成，內(nèi)部經(jīng)過特殊處理以避免氣體泄漏。根據(jù)加工產(chǎn)品的要求，真空腔的大小可能有所不同，如直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。

　　連接：真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。

　　靶材供應(yīng)系統(tǒng)：

　　功能：靶材是用來產(chǎn)生蒸發(fā)物或離子束的來源。

　　構(gòu)成：靶材供應(yīng)系統(tǒng)通常由加熱器、靶材支架和傳感器等組成，用于控制靶材溫度和靶材表面的蒸發(fā)速率。

　　輔助加熱系統(tǒng)：

　　功能：在一些特殊情況下，需要額外的加熱來提高鍍膜效果。

　　構(gòu)成：輔助加熱系統(tǒng)一般由加熱器和加熱控制裝置組成，能夠提供額外的加熱能量。

　　輔助抽氣系統(tǒng)：

　　功能：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，用于將真空腔內(nèi)的氣體抽出，維持高真空狀態(tài)。

　　構(gòu)成：主要有由機(jī)械泵、增壓泵(如羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三大部分組成。此排氣系統(tǒng)可能采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”的組合方式。

　　磁控濺射裝置及電源：

　　功能：磁控濺射電源決定了磁控濺射工藝過程等離子體狀態(tài)，對(duì)鍍膜工藝和膜層生長質(zhì)量起著至關(guān)重要的作用。

　　類型：磁控濺射電源類型有直流電源、中頻電源和射頻電源。其中直流電源因其簡單可靠、工作穩(wěn)定、功率大、沉積速率快而廣泛應(yīng)用于大面積TCO薄膜的制備。

　　除了上述主要部件外，PVD真空鍍膜機(jī)還可能包括基帶移動(dòng)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等其他輔助部件，以確保鍍膜過程的順利進(jìn)行。這些部件的協(xié)同工作使得PVD真空鍍膜機(jī)能夠制備出高質(zhì)量、均勻性好的薄膜材料。

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