作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2022-06-23
以離子鍍膜技術(shù)為主的真空鍍膜技術(shù)可以鍍出各種領(lǐng)域中所需要的具有特殊的薄膜材料，這些產(chǎn)品都是采用蒸發(fā)鍍膜或者磁控濺射鍍膜等方法來獲得，這就需要用到離子源電源和磁控濺射電源。
首先要求要薄，一般厚度是微米級(jí)納米級(jí)，現(xiàn)在是在芯片上要鍍出晶體管，電阻電容電桿等功能薄膜，這些功能薄膜要輸出要相互連結(jié)，所以要鍍導(dǎo)電膜，各個(gè)功能之間要相互隔離要鍍絕緣膜，所以在一個(gè)芯片上要鍍多層膜，多層的功能膜多層的導(dǎo)電膜多層絕緣膜，這就要求每一層都很薄，一般要求在一個(gè)?m以下。
第二：薄膜和基體的成分是不同的，可以是新的純金屬膜，合金膜，化合膜，多層膜，這層心外一是薄的，不是滲層，與基材沒有熱力學(xué)關(guān)系，不像是噴涂層和電鍍層那樣是大于10個(gè)?m以上的涂層，所以說薄膜是個(gè)很薄的新外衣，是個(gè)新的材料。
第三個(gè)要求就是要有各種特殊功能，從前面看到的各種應(yīng)用領(lǐng)域要求薄膜可以進(jìn)行光電轉(zhuǎn)換，光熱轉(zhuǎn)換/光磁存儲(chǔ)，吸收光/反射光/透光/濾光/導(dǎo)電/絕緣/點(diǎn)屏蔽/高硬度/高耐磨性/減摩性能，零件表面要有多彩/絢麗的裝飾功能，高端產(chǎn)品對(duì)我們是有各種各樣的特殊功能，高端產(chǎn)品對(duì)薄膜的要求：薄/新外衣/特殊功能/特定組織/晶體結(jié)構(gòu)。要求致密無針孔無瑕疵，與基體結(jié)合要好，就是離子鍍膜技術(shù)，是制備高端產(chǎn)品的新技術(shù)。
為了迎合市場(chǎng)的各種需求，英能公司研發(fā)了各種適應(yīng)各種領(lǐng)域的電源來滿足消費(fèi)者，有能夠提高工作效率、提高產(chǎn)品亮度和穩(wěn)定性、抗磨損的離子源電源和磁控濺射電源。歡迎來電咨詢：18025476062（微信同號(hào)）
