作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-12-11
在大多數人眼里，偏壓電源只有單極偏壓和雙極性脈沖偏壓的區別，只要電壓電流在工作范圍內，接上就用。殊不知，鍍膜要想達到最好的效果，設備和電源的配合是極為重要的。就比如說常見的直流偏壓電源和脈沖偏壓電源，今天小編對二種電源略做總結，來捋一捋二者之間的不同。
傳統的電弧離子鍍是在基片臺上施加直流負偏壓控制離子轟擊能量, 這種沉積工藝存在以下缺點:
1. 基體溫升高, 不利于在回火溫度低的基體上沉積硬質膜。
2. 高能離子轟擊造成嚴重的濺射, 不能簡單通過提高離子轟擊能量合成高反應閾能的硬質薄膜。
直流偏壓電弧離子鍍工藝中,為了抑制正離子對基體表面連續轟擊而導致的基體溫度過高,主要采取減少沉積功率、縮短沉積時間、采用間歇沉積方式等措施來降低沉積溫度，這些措施可以概括地稱為能量控制法"這種方法雖然可以降低沉積溫度,但也使薄膜的某些性能下降,同時還降低了生產效率和薄膜質量的穩定性，因此,難以推廣應用。
脈沖偏壓電弧離子鍍工藝中,由于離子是以非連續的脈沖方式轟擊基體表面,所以通過調節脈沖偏壓的占空比,可改變基體內部與表面之間的溫度梯度,進而改變基體內部與表面之間熱的均衡補償效果,達到調控沉積溫度的目的。這樣就可以把施加偏壓的脈沖高度與工件溫度獨立分開(互不影響或影響很小)調節,利用高壓脈沖來獲得高能離子的轟擊效應以改善薄膜的組織和性能,通過降低占空比來減小離子轟擊的總加熱效應以降低沉積溫度。
英能電氣致力于真空鍍膜機電源的研發和生產，確保鍍膜過程中電壓電流的穩定性，鍍膜效率高。因客戶需求不同，具體情況分別面對，如您有相關需求，赽快聯系小編免費試用吧！180 2690 9337（微信同號）
