作者:深圳市英能電氣有限公司
時間:2022-12-07
偏壓電源(Bias power supply )是真空電弧離子鍍及其它真空物理氣相沉積設備中一個重要組件,在真空離子鍍膜中,偏壓電源的好壞對于成膜質量起著非常關鍵的作用。
偏壓(Bias)是指在鍍膜過程中施加在基體上的負電壓。偏壓電源的正極接到真空室上,同時真空室接地,偏壓的負極接到工件上。由于大地的電壓一般認為是零電位,所以工件上的電壓習慣說負偏壓。
負偏壓的作用
1.提高真空等離子體內帶電粒子的能量,轟擊清洗所鍍工件表面,使工件表面經受高能粒子撞擊后得到嶄新的表層,從而提高后續沉積膜層的結合力
2.通過偏壓轟擊,在膜層與基體之間生成一層與二者均相容的過渡金屬層,以便于膜層與基體結合。
3.靠不同的電壓輸出極性或方式改變沉積規則,調整膜層顏色與性能。
4.通過帶電離子的轟擊,對基片產生加熱效應。
5.清除基片上吸附的氣體和油污等,有利于提高膜層結合強度。
6.活化基體表面。
7.對電弧離子鍍(Arc Ion Plating)中的大顆粒有凈化作用。
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