作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-12-13
中頻磁控濺射電源是大家都比較熟知的磁控濺射電源，但是在這之前常用的是直流磁控濺射電源和射頻電源，算得上是真空鍍膜行業的一大進步，下面就來了解中頻電源有哪些優勢。
磁控濺射之前是采用直流電源，靶材接負極。但是直流輝光放電的密度小，因此濺射的速率低，采用中頻電源，頻率有20KHZ，40KHZ、100KHZ，中頻電源的兩個極接兩個磁控濺射靶，放電以后，兩個極的極性迅速發生變化，是兩個靶的帶電粒子做震蕩運動，增加了電子與氬氣的碰撞機率，靶電流密度增大，沉積速率提高，還可以克服靶中毒獲得絕緣膜，比如氮化硅、氧化鋁。
在沉積高新技術產品中很多都需要鍍絕緣膜。在采用中頻電源之前，鍍絕緣膜是采用射頻電源，射頻電源的頻率是13.56MHZ，靶材是化合物靶，但是化合物的濺射速率比純金屬的速率低，另外射頻電源對人體有輻射有危害，對周圍的弱點儀器有干擾，必須有可靠的屏蔽措施，價格也比較歸而且功率比較小，做不了很大震蕩，鍍膜的功率也很小。采用中頻電源可以克服靶中毒，使反應鍍膜速率加快。
綜上所述，可以了解到中頻電源的優勢很大，針對沉積速率這個功能的應用，英能推出的一款頻率更高的高頻中頻電源，在沉積速率和離化率方面有很大的改善。如有興趣了解來電咨詢18025476062.
