真空鍍膜電源

　　電弧蒸發(fā)源和多弧離子鍍膜機(jī)具有一系列顯著的優(yōu)點(diǎn)，這些優(yōu)點(diǎn)使其在多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。以下是它們的主要優(yōu)點(diǎn)：

　　電弧蒸發(fā)源的優(yōu)點(diǎn)

　　高離子能量和高離化率：電弧蒸發(fā)源通過冷陰極自持電弧放電，實(shí)現(xiàn)了場(chǎng)致發(fā)射，能夠產(chǎn)生高達(dá)60%-80%的離化率，使得鍍膜的離子能量更高，從而提高了鍍膜的質(zhì)量和性能。

　　高沉積速率：電弧蒸發(fā)源的沉積速率非?？?，例如對(duì)于TiN材料，其沉積速率可達(dá)到100nm/s~1000nm/s，這大大提高了生產(chǎn)效率。

　　靈活性：作為固體型的蒸發(fā)源，電弧蒸發(fā)源的形狀、大小和位置可以根據(jù)需要進(jìn)行調(diào)整，以適應(yīng)不同的鍍膜工藝要求。

　　運(yùn)行真空范圍大：電弧蒸發(fā)源能夠在較大的真空范圍內(nèi)穩(wěn)定運(yùn)行，這為鍍膜過程提供了更多的靈活性和穩(wěn)定性。

　　多弧離子鍍膜機(jī)的優(yōu)點(diǎn)

　　高效可靠：多弧離子鍍膜機(jī)采用特殊的冷陰極電弧放電技術(shù)，能夠產(chǎn)生高密度、高強(qiáng)度的膜層，使得鍍膜的壽命更長(zhǎng)、強(qiáng)度更高。這種技術(shù)確保了鍍膜過程的穩(wěn)定性和可靠性。

　　工藝范圍廣：多弧離子鍍膜機(jī)適合在較高真空或較低環(huán)境溫度(如200°C)下做反應(yīng)鍍、離子鍍等多種工藝，能夠滿足不同材料的鍍膜需求。

　　優(yōu)異的膜性能：多弧離子鍍膜機(jī)能夠制備出結(jié)構(gòu)致密、與鍍件牢固結(jié)合的膜層。工件的轟擊加熱、清潔和沉積均由離化金屬等離子體轟擊完成，實(shí)現(xiàn)了“一弧三用”，提高了膜層的綜合性能。

　　生產(chǎn)效率高：多弧離子鍍膜機(jī)具有較大的鍍膜空間和生產(chǎn)效率高的特點(diǎn)，適合大批量的工業(yè)化生產(chǎn)。其設(shè)備生產(chǎn)效率高、工作周期短，能夠顯著降低生產(chǎn)成本。

　　操作簡(jiǎn)便：多弧離子鍍膜機(jī)通常配備有自動(dòng)控制系統(tǒng)，能夠消除人為錯(cuò)誤，提高生產(chǎn)過程的穩(wěn)定性和可控性。同時(shí)，設(shè)備的操作簡(jiǎn)單、抽氣速度快等特點(diǎn)也降低了操作難度和勞動(dòng)強(qiáng)度。

　　廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域：多弧離子鍍膜機(jī)在電子、化工、輕工、機(jī)械、國(guó)防、采礦、冶金等諸多行業(yè)領(lǐng)域均有廣泛應(yīng)用。例如，在工具、模具的超硬涂層以及高爾夫球具、鐘表、衛(wèi)浴潔具等產(chǎn)品的裝飾涂層方面，多弧離子鍍膜機(jī)都表現(xiàn)出了優(yōu)異的性能和市場(chǎng)前景。

　　綜上所述，電弧蒸發(fā)源和多弧離子鍍膜機(jī)以其高效、可靠、靈活、工藝范圍廣和優(yōu)異的膜性能等優(yōu)點(diǎn)，在多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用和推廣。

　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958