真空鍍膜電源

　　離子鍍弧源在鍍膜過程中，特別是在使用磁場(chǎng)輔助的真空電弧離子鍍(如多弧離子鍍)時(shí)，磁場(chǎng)起到了至關(guān)重要的作用。這些作用主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：

　　1. 弧斑運(yùn)動(dòng)和穩(wěn)定性

　　弧斑移動(dòng)：在磁場(chǎng)作用下，陰極靶面上的弧斑運(yùn)動(dòng)變得更加復(fù)雜和動(dòng)態(tài)。磁場(chǎng)能夠改變弧斑的移動(dòng)軌跡，使其更加均勻地在靶面上移動(dòng)，減少局部過熱和燒蝕現(xiàn)象。

　　穩(wěn)弧效果：適當(dāng)?shù)拇艌?chǎng)分布能夠增強(qiáng)電弧的穩(wěn)定性，防止電弧熄滅或產(chǎn)生不穩(wěn)定現(xiàn)象，從而保證鍍膜過程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。

　　2. 等離子體特性

　　等離子體密度：磁場(chǎng)能夠增加等離子體的密度，使得更多的金屬離子被電離并參與到鍍膜過程中，提高鍍膜效率和質(zhì)量。

　　離子能量：通過調(diào)整磁場(chǎng)強(qiáng)度和分布，可以影響離子在電場(chǎng)中的加速過程，從而控制離子的能量分布，優(yōu)化鍍膜層的性能。

　　3. 鍍膜層質(zhì)量

　　膜層均勻性：磁場(chǎng)輔助下的離子鍍能夠改善鍍膜層的均勻性，減少膜層中的針孔、氣泡等缺陷，提高膜層的光潔度和致密度。

　　膜基結(jié)合力：磁場(chǎng)有助于增強(qiáng)膜層與基體之間的結(jié)合力，使得鍍膜層更加牢固地附著在基體上，提高產(chǎn)品的使用壽命和可靠性。

　　4. 具體影響機(jī)制

　　軸向磁場(chǎng)：如研究所示，隨著軸向磁場(chǎng)強(qiáng)度的增大，薄膜表面大顆粒數(shù)、凹坑數(shù)不斷增多，薄膜粗糙度增大，但薄膜生長(zhǎng)速率也增大，膜層變得更加致密。此外，磁場(chǎng)還能改變薄膜的生長(zhǎng)取向和成分分布。

　　復(fù)合磁場(chǎng)：在離子源的磁控中，常使用電磁線圈、永磁體等裝置產(chǎn)生復(fù)合磁場(chǎng)(如軸對(duì)稱磁場(chǎng)、多模式旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)等)，這些磁場(chǎng)能夠進(jìn)一步調(diào)控弧斑的運(yùn)動(dòng)和放電過程，優(yōu)化鍍膜效果。

　　5. 實(shí)際應(yīng)用

　　在設(shè)計(jì)陰極靶材時(shí)，靶面的邊緣通常會(huì)設(shè)計(jì)一定的角度，以利用銳角法則限制弧斑的運(yùn)動(dòng)，避免滅弧現(xiàn)象的發(fā)生。

　　磁場(chǎng)輔助下的真空電弧離子鍍技術(shù)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、裝飾和保護(hù)等多個(gè)領(lǐng)域，為各種材料的表面改性提供了有效手段。

　　綜上所述，離子鍍弧源在鍍膜磁場(chǎng)的作用下，通過調(diào)控弧斑運(yùn)動(dòng)、等離子體特性和鍍膜層質(zhì)量等方面，實(shí)現(xiàn)了高效、高質(zhì)量的鍍膜過程。

　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958