真空鍍膜電源

　　離子鍍膜的原理及種類可以按照以下方式清晰地分點(diǎn)表示和歸納：

　　離子鍍膜原理

　　離子鍍膜技術(shù)是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜新技術(shù)。該技術(shù)利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。在離子鍍膜過程中，工件(基片)帶負(fù)偏壓，工件始終受高能離子的轟擊。這種技術(shù)大大提高了膜層粒子能量，可以獲得更優(yōu)異性能的膜層，擴(kuò)大了“薄膜”的應(yīng)用領(lǐng)域。

　　離子鍍膜種類

　　離子鍍膜可以分為兩大類：

　　金屬離子鍍膜

　　定義：金屬離子鍍膜是指將金屬離子沉積到基材表面上，以增加其硬度、耐磨性和耐腐蝕性。

　　常見技術(shù)：

　　鍍鉻：將鉻離子沉積到基材表面，提高基材的硬度和耐腐蝕性，使其具備更好的耐磨性和耐高溫性能。

　　鍍鎳：將鎳離子沉積到基材表面，增加基材的硬度和耐腐蝕性，同時(shí)還能提升其光澤度和裝飾性。

　　鍍銀：將銀離子沉積到基材表面，使基材具備良好的導(dǎo)電性和抗氧化性能，同時(shí)提升外觀質(zhì)感和裝飾效果。

　　非金屬離子鍍膜

　　定義：非金屬離子鍍膜是指將非金屬離子沉積到基材表面上，以改善其特定性能。

　　常見技術(shù)：

　　氮化：將氮離子沉積到基材表面，增加基材的硬度、耐磨性和耐腐蝕性，改善其表面光潔度和抗氧化性能。

　　氧化：將氧離子沉積到基材表面，形成一層氧化膜，提高基材的耐磨性、耐腐蝕性和絕緣性能。

　　碳化：將碳離子沉積到基材表面，增加基材的硬度和耐磨性，改善其耐腐蝕性和導(dǎo)熱性能。

　　總結(jié)

　　離子鍍膜技術(shù)通過特定的物理或化學(xué)過程，將金屬或非金屬離子沉積在基材表面，從而改善基材的性能。這種技術(shù)在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)和科研領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用，可以根據(jù)不同的需求選擇適合的離子鍍膜技術(shù)來提升材料的性能和質(zhì)量。

　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958