作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-07-01
真空鍍膜裝置是一種用于在物體表面形成薄膜的設備，其工作原理基于在真空環(huán)境中利用物理或化學方法將材料沉積在基底表面上。以下是關于真空鍍膜裝置的詳細解釋：
工作原理：
真空鍍膜裝置首先將室內(nèi)空氣抽出，使設備內(nèi)部氣壓降低到遠低于大氣壓的極低壓力范圍，這個過程被稱為真空化。
在真空環(huán)境中，鍍膜物體進行預處理，目的是清潔表面并提供一個適合涂層附著的表面。
接著，選擇適合的鍍膜方法進行涂覆，如蒸發(fā)或濺射。蒸發(fā)涉及將鍍膜材料加熱到沸點以上，使其蒸發(fā)成蒸汽并沉積在待涂層表面;濺射則是利用高能離子轟擊固體目標，將目標表面的原子或離子彈出，形成蒸發(fā)云團并在真空腔體內(nèi)部沉積在待涂層表面。
鍍膜物質逐漸沉積在基底表面，形成一層均勻且致密的涂層。
應用領域：
真空鍍膜技術廣泛應用于生產(chǎn)光學鏡片，如航海望遠鏡鏡片等，并延伸到其他功能薄膜，如唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。
在可再生能源行業(yè)，真空鍍膜技術用于生產(chǎn)薄膜太陽能電池和節(jié)能照明。
在電子設備生產(chǎn)中，涂層應用于半導體、顯示器和其他電子元件，以提高其性能和耐用性。
結構組成：
真空鍍膜機的主要結構包括真空室、真空系統(tǒng)、鍍膜源、襯底架、電子控制系統(tǒng)、監(jiān)測儀器和輔助設備等。
真空室是鍍膜機的主體部分，提供高真空環(huán)境;真空系統(tǒng)包括真空泵、閥門、管道等，用于創(chuàng)建真空環(huán)境;鍍膜源用于產(chǎn)生鍍膜材料蒸汽或離子束;襯底架用于固定待鍍膜物體;電子控制系統(tǒng)控制鍍膜機的運行過程;監(jiān)測儀器實時監(jiān)測鍍膜過程中的關鍵參數(shù)。
技術特點：
真空鍍膜裝置提高了鍍膜厚度控制精度和產(chǎn)品加工工藝的重復性。
通過真空環(huán)境下的物理或化學過程，在基底表面上形成薄膜，為工業(yè)生產(chǎn)和科學研究提供了關鍵的技術支持。
總之，真空鍍膜裝置是一種利用真空環(huán)境和物理或化學方法將材料沉積在物體表面的設備，廣泛應用于多個行業(yè)，具有高精度和高度重復性的特點。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業(yè)、iso9001認證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
