作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-06-07
單極性脈沖磁控濺射電源是一種采用矩形波電壓的脈沖電源，主要用于替代傳統(tǒng)的直流電源進行磁控濺射沉積。它的主要應用領域包括：
功能性薄膜制備：單極性脈沖磁控濺射電源能夠有效地抑制電弧產(chǎn)生，消除薄膜缺陷，并提高濺射沉積速率和膜層質量。因此，它常被用于制備具有特定功能的薄膜，如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。
裝飾領域：在裝飾領域，單極性脈沖磁控濺射電源可以用于制備各種全反射膜及半透明膜等，提高產(chǎn)品的外觀質量和耐久性。
微電子領域：在微電子領域，單極性脈沖磁控濺射電源作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用于化學氣相沉積(CVD)或金屬有機物中，用于制備各種電子元件和半導體器件的薄膜材料。
光學領域：在光學領域，單極性脈沖磁控濺射電源可用于制備增透膜、低輻射玻璃和透明導電玻璃等，滿足平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等的應用需求。
此外，單極性脈沖磁控濺射電源在半導體制造中也有廣泛應用，用于制備金屬薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜等。由于它能夠提高薄膜的均勻性、可控性強、沉積速度快以及廣泛的材料適應性，因此在半導體行業(yè)中得到了廣泛應用。
總的來說，單極性脈沖磁控濺射電源在新材料制備領域具有廣泛的應用前景，為新材料行業(yè)的發(fā)展注入了新的動力。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業(yè)、iso9001認證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
