真空鍍膜電源

　　單極性脈沖磁控濺射電源的主要特點(diǎn)包括以下幾個(gè)方面：

　　明顯改善靶面電荷積累現(xiàn)象：在濺射過程中，靶面會(huì)積累電荷，這可能導(dǎo)致打火現(xiàn)象和濺射不穩(wěn)定。單極性脈沖磁控濺射電源的設(shè)計(jì)可以有效地改善這一問題，提高濺射過程的穩(wěn)定性和可靠性。

　　減小濺射表面的打火次數(shù)：通過優(yōu)化電源的輸出特性和脈沖參數(shù)，單極性脈沖磁控濺射電源可以減少濺射表面的打火次數(shù)，從而保護(hù)濺射設(shè)備和靶材，延長其使用壽命。

　　提高膜層質(zhì)量：?jiǎn)螛O性脈沖磁控濺射電源能夠提供穩(wěn)定的電壓和電流輸出，確保濺射過程的一致性，從而制備出質(zhì)量更高、更均勻的膜層。

　　平均電源穩(wěn)定功能：該電源具有理想的電壓陡降特性，能夠在濺射過程中保持穩(wěn)定的電壓輸出，確保濺射過程的連續(xù)性和穩(wěn)定性。

　　脈沖控制：通過調(diào)整脈沖寬度和脈沖頻率，可以精確控制濺射過程中的能量分布和濺射速率，以滿足不同工藝的需求。

　　廣泛的適用性：?jiǎn)螛O性脈沖磁控濺射電源主要用于金屬、合金及石墨等靶材鍍制金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化物及碳化物膜。

　　綜上所述，單極性脈沖磁控濺射電源以其獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)在濺射技術(shù)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。

　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958