作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-12-06
單極脈沖磁控濺射電源與普通直流磁控濺射電源相比，不僅是多了輸出頻率，也多了一個可調(diào)占空比，為了獲得理想的鍍層質(zhì)量和均勻性，占空比可是發(fā)揮了很大的作用，真空鍍膜電源的占空比是指在一個特定時間段內(nèi)，電源輸出信號的高電平時間占總時長的比例。這個參數(shù)是控制電源輸出的重要因素之一，它的作用不僅僅是保證真空鍍膜過程中的穩(wěn)定性和一致性，還直接決定著被鍍膜物質(zhì)的特性和質(zhì)量。為了確保鍍層的質(zhì)量和穩(wěn)定性，電源的占空比需要在一定范圍內(nèi)變化。這是因為在鍍膜過程中，被鍍膜物質(zhì)表面的蒸汽壓力和速度都會發(fā)生變化，這就需要通過調(diào)整占空比來適應(yīng)這些變化，以保證穩(wěn)定的電源輸出和優(yōu)質(zhì)的鍍層質(zhì)量。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
