作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-11-06
電源工作模式是中頻磁控濺射沉積過程中的重要參數(shù)，它直接影響著沉積速率的大小。在中頻磁控濺射沉積過程中，電源工作模式可以分為直流模式和脈沖模式兩種。直流模式下，電源會持續(xù)地提供恒定的電壓和電流，使靶材表面的離子在磁場的作用下被加速并擊打到基板上，從而實現(xiàn)沉積。這種模式下，由于電源的穩(wěn)定輸出，沉積速率相對較為穩(wěn)定。而在脈沖模式下，電源會周期性地改變電壓和電流的輸出，即電源會以一個固定的頻率不斷切換工作狀態(tài)，使得離子的能量也會產(chǎn)生周期性的變化。這種模式下，沉積速率會有所增加，并且由于能量的擾動，沉積層的均勻性可能會有所降低。因此，在實際應(yīng)用中，根據(jù)具體的需求選擇合適的電源工作模式對于獲得理想的沉積速率和沉積層質(zhì)量非常重要。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
