作者：深圳市英能電氣有限公司
時(shí)間：2023-10-18
真空濺射鍍膜和中頻磁控濺射電源，在充氬氣的真空下，氬氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)氬原子電離成氮離子，離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊陰極靶材，靶材粒子被濺射出來并沉積到工件表面，濺射出來的粒子一般采用輝光放電獲得，粒子在飛向基體的過程中，和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，這樣沉積的膜層更均勻。濺射鍍膜普遍使用在裝飾鍍工藝上，針對(duì)濺射鍍膜我們會(huì)推薦中頻磁控濺射電源，如果靶材是金，推薦脈沖直流磁控濺射電源，通過電源穩(wěn)定的工作，確保每爐產(chǎn)品膜層均勻，品質(zhì)穩(wěn)定。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
