作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-05-10
對于直流磁控濺射和中頻磁控濺射都是大家常見的濺射鍍膜工藝，但是對于熟悉的兩種濺射工藝存在著哪些區(qū)別，小編帶你走進看看
1.直流(DC)磁控濺射
濺射與氣壓的關系 - 在一定范圍內提高離化率(盡量小的壓強下維持高的離化率)、提高均勻性要增加壓強和保證薄膜純度、提高薄膜附著力要減小壓強的矛盾,產生一個平衡.
輝光放電直流濺射系統(tǒng)
特點:提供一個額外的電子源,而不是從靶陰極獲得電子.實現(xiàn)低壓濺射(壓強小于0.1帕).
缺點:難以在大塊扁平材料中均勻濺射,而且放電過程難以控制,進而工藝重復性差.
2.中頻(MS)磁控濺射
中頻交流磁控濺射可用在單個陰極靶系統(tǒng)中,工業(yè)上一般使用孿生靶濺射系統(tǒng);靶材利用率最高可達70%以上,靶材有更長的使用壽命,更快的濺射速率,杜絕靶材中毒現(xiàn)象.
針對兩種不同的濺射，我司能提供的直流磁控濺射電源和中頻磁控濺射電源得到了廣大客戶的認同和贊許，在做了同種電源嚴格的對比最終選擇我司電源，期待您的咨詢和了解，您的滿意是我們不竭的動力。
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