離子鍍膜

　　多弧電源離子鍍是真空室中，利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時(shí)，將蒸發(fā)物或反應(yīng)物沉積在基片上。

　　離子鍍把 輝光放電現(xiàn)象、 等離子體技術(shù)和真空蒸發(fā)三者有機(jī)結(jié)合起來(lái)，不僅能明顯地改進(jìn)了膜質(zhì)量，而且還擴(kuò)大了薄膜的應(yīng)用范圍。其優(yōu)點(diǎn)是薄膜 附著力強(qiáng)，繞射性好，膜材廣泛等。D.M.首次提出離子鍍?cè)?，起工作過(guò)程是：

　　先將真空室抽至4×10(-3)帕以上的 真空度，再接通 高壓電源，在蒸發(fā)源與基片之間建立一個(gè)低壓氣體放電的 低溫等離子區(qū)?；姌O接上5KV直流負(fù)高壓，從而形成輝光放電陰極。輝光放電去產(chǎn)生的惰性氣體離子進(jìn)入陰極暗區(qū)被電場(chǎng)加速并轟擊基片表面，對(duì)其進(jìn)行清洗。然后計(jì)入鍍膜過(guò)程，加熱使鍍料氣化，起原子進(jìn)入等離子區(qū)，與惰性氣體離子及電子發(fā)生碰撞，少部分產(chǎn)生離化。離化后的例子及氣體離子以較高能量轟擊 鍍層表面，致使膜層質(zhì)量得到改善。

　　離子鍍種類很多，蒸發(fā)遠(yuǎn)加熱方式有電阻加熱、 電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱等

　　然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區(qū)別。多弧離子鍍采用的是弧光放電，而并不是傳統(tǒng)離子鍍的輝光放電進(jìn)行沉積。簡(jiǎn)單的說(shuō)，多弧離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發(fā)源，通過(guò)靶與陽(yáng)極殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)，從而在空間中形成 等離子體，對(duì)基體進(jìn)行沉積。

　　深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售為一體的高科技企業(yè)，主要產(chǎn)品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽(yáng)極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術(shù)企業(yè)、iso9001認(rèn)證，擁有專利多份。產(chǎn)品已獲得ce、rohs認(rèn)證。專注提供真空鍍膜電源及工業(yè)控制領(lǐng)域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958