離子鍍膜技術(shù)-多弧離子鍍

離子鍍膜技術(shù)可能大家并不陌生，但是具體有哪些種類具體又如何細分想必并不是太清楚，小編今天帶您走進我們離子鍍膜技術(shù)中的多弧離子鍍。

多弧離子鍍是把真空弧光放電用于蒸發(fā)源的鍍膜技術(shù)，也稱真空弧光蒸鍍法。蒸鍍時陰極表面出現(xiàn)許多非常小的弧光輝點，把這種技術(shù)實用化的美國 Muli-Arc公司的譯名譯為多弧，所以一般稱為多弧法。如果在工作室中通入所需的反應(yīng)氣體，則能生成膜層致密均勻、附著性能優(yōu)良的化合物膜層。多弧離子鍍可設(shè)置多個弧源，為了獲得好的繞射性，可獨立控制各個源。這種設(shè)備可用來制作多層結(jié)構(gòu)膜、合金膜、化合物膜。

多弧離子鍍有以下的特點∶

1、從陰極直接產(chǎn)生等離子體，不用熔池，弧源可任意方位、多源布置;

2、設(shè)備結(jié)構(gòu)較簡單，不需要工作氣體，也不需要輔助的離子化手段，弧源既是陰極材料的蒸發(fā)源，又是離子源，而在進行反應(yīng)性沉積時僅有反應(yīng)氣體存在，氣氛的控制僅是簡單的全壓強控制;

3、離化率高，一般可達60%～80%，沉積速率高;

4、入射離子能量高，沉積膜的質(zhì)量和附著性能好;

5、采用低電壓電源工作，較為安全。多弧離子鍍的應(yīng)用面廣，實用性強，特別在高速鋼刀具和不銹鋼板表面上鍍覆 TiN 膜層等方面發(fā)展最為迅速。

一個好的鍍膜技術(shù)當(dāng)然也需要有一個好的硬件配套，也就離不開一臺給力的電源的助力，今天小編帶你走進英能公司，這里有很好的電源提供給大家，可以說是應(yīng)有盡有，常規(guī)電源中頻磁控濺射電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源、脈沖偏壓電源和雙極脈沖偏壓電源、弧電源和離子源電源，當(dāng)然還可以定制，能基本滿足PVD鍍膜技術(shù)中的電源需求，還不趕緊拿起手機訂購，說不定還有意外驚喜等著您！您的滿意是英能不變的初衷！

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