作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-03-29
真空鍍膜技術是一種先進的表面處理技術，廣泛應用于各個領域。在真空鍍膜過程中，電源的質量和性能對鍍膜質量和效率具有非常重要的影響。因此，選擇合適的電源對于實現(xiàn)高質量、高效率的表面處理至關重要。真空鍍膜電源是指在真空環(huán)境中使用的特殊電源，通常分為三類。
第一類是電弧源電源。這種電源使用弧放電來產生高溫等離子體，將加熱材料蒸發(fā)成蒸氣，使其沉積在目標表面上以形成涂層。電弧源電源通常具有高能量密度和高效率，適用于鍍膜材料較難揮發(fā)的情況下，如金屬、陶瓷等。電弧源電源還可以用于合成新材料，例如合成晶體和金屬非晶體。
第二類是陰極濺射電源。在這種電源中，金屬或合金靶材被加熱并離子化，離子擊中材料表面并在其上沉積，在單晶、薄膜、多層膜的生長過程中廣泛應用。陰極濺射電源優(yōu)點在于產生高質量的膜層，具有穩(wěn)定性和可重復性強等特點。它可以在高真空、大氣壓等條件下操作，是制備薄膜、電路、太陽電池等的重要工具。
第三類是離子束濺射電源。與陰極濺射相比，這種電源可以產生更高的能量密度，產生的薄膜具有更高的質量和致密性。離子束濺射被應用于制造太赫茲和紅外線傳感器、反射和抗反射涂層等。它還可以在多種材料上安裝，如氧化物、硅、金屬和半導體，具有出色的鍍膜效果。
總之，根據(jù)不同的應用需求，選擇具有適當電源的真空鍍膜工藝可以獲得更好的經濟效益和技術性能。
