作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-06-26
鍍膜電源在鍍膜工藝中發揮著至關重要的作用，其主要用途可以歸納為以下幾點：
提供偏壓：鍍膜電源是真空電弧離子鍍及其它真空物理氣相堆積設備中的關鍵組件，它能夠在鍍膜工藝流程中為工件提供負(或正)偏壓。
提升粒子能量和膜層結合力：
通過進步真空等離子體內帶電粒子的能量，鍍膜電源能夠轟擊清洗所鍍工件的外表，使工件外表飽嘗高能粒子撞擊后得到簇新的表層，進而提升后續堆積膜層的結合力。
同時，鍍膜電源還能操控真空等離子體內帶電粒子的能量，進一步提高膜層與工件基體的結合力。
改變堆積規矩和調整膜層顏色：鍍膜電源靠不同的電壓輸出極性或方式改變堆積規矩，從而調整膜層的顏色。
應用領域廣泛：
光學領域：真空鍍膜電源廣泛應用于光學鏡片、濾光片、反射鏡等光學元件的鍍膜生產，提升元件的光學性能。
電子領域：在半導體器件、顯示器、觸摸屏等電子產品的制造過程中，鍍膜電源為薄膜材料的沉積提供關鍵支持，確保產品的質量和性能。
裝飾和保護領域：鍍膜電源還用于金屬、塑料等材料的表面裝飾和保護，如汽車、家電等產品的表面鍍膜處理，提升產品的美觀度和耐久性。
克服弧光放電問題：鍍膜電源在真空等離子體環境中工作時，能夠克服由高電壓引起的陰極弧光放電燒傷工件的問題。
電鍍和電解加工：除了真空鍍膜工藝，鍍膜電源還廣泛應用于電鍍行業，主要用于金屬半導體材料的電鍍和電解加工、化學加工、生產凈水、環保等領域。
綜上所述，鍍膜電源在鍍膜工藝中扮演著至關重要的角色，其獨特的功能和廣泛的應用領域使得鍍膜技術得以在多個行業中得到應用和發展。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發、生產與銷售為一體的高科技企業，主要產品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業、iso9001認證，擁有專利多份。產品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
