作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-06-03
PVD真空鍍膜機是一種復雜的設備，其各個部件在鍍膜過程中都起著關鍵的作用。以下是PVD真空鍍膜機的主要部件及其功能分析：
真空腔體：
功能：鍍膜過程需要在高真空條件下進行，真空腔體是保持腔體內高真空狀態的關鍵部分。
構造：通常由不銹鋼或其他耐腐蝕材料制成，內部經過特殊處理以避免氣體泄漏。根據加工產品的要求，真空腔的大小可能有所不同，如直徑1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等。
連接：真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。
靶材供應系統：
功能：靶材是用來產生蒸發物或離子束的來源。
構成：靶材供應系統通常由加熱器、靶材支架和傳感器等組成，用于控制靶材溫度和靶材表面的蒸發速率。
輔助加熱系統：
功能：在一些特殊情況下，需要額外的加熱來提高鍍膜效果。
構成：輔助加熱系統一般由加熱器和加熱控制裝置組成，能夠提供額外的加熱能量。
輔助抽氣系統：
功能：排氣系統為鍍膜機真空系統的重要部分，用于將真空腔內的氣體抽出，維持高真空狀態。
構成：主要有由機械泵、增壓泵(如羅茨泵)、油擴散泵三大部分組成。此排氣系統可能采用“擴散泵+機械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”的組合方式。
磁控濺射裝置及電源：
功能：磁控濺射電源決定了磁控濺射工藝過程等離子體狀態，對鍍膜工藝和膜層生長質量起著至關重要的作用。
類型：磁控濺射電源類型有直流電源、中頻電源和射頻電源。其中直流電源因其簡單可靠、工作穩定、功率大、沉積速率快而廣泛應用于大面積TCO薄膜的制備。
除了上述主要部件外，PVD真空鍍膜機還可能包括基帶移動系統、控制系統等其他輔助部件，以確保鍍膜過程的順利進行。這些部件的協同工作使得PVD真空鍍膜機能夠制備出高質量、均勻性好的薄膜材料。
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