作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-04-29
單極性脈沖偏壓電源提高離子能量的方式主要依賴于其脈沖輸出的特性。
首先，通過調整脈沖電源的幅度，可以直接控制加在工件上的偏壓大小。這個偏壓為真空室中的離子提供了一個加速的電場，使得離子在電場中獲得更高的能量。當這些高能離子轟擊工件表面時，它們可以更有效地傳遞動量，從而改善薄膜的沉積效果或提高表面處理的效率。
其次，脈沖的寬度和頻率也是影響離子能量的重要因素。較窄的脈沖寬度和較高的頻率可以產生更密集的離子束，這些離子束中的離子具有更高的平均能量。通過優化脈沖寬度和頻率，可以進一步控制離子的能量分布和轟擊強度。
此外，單極性脈沖偏壓電源在電壓中斷期間提供了一個特殊的條件，即工件表面的電荷有機會被中和。這種中和過程減少了表面電荷積累引起的電場屏蔽效應，從而保證了離子能夠持續受到加速并維持較高的能量。
綜上所述，單極性脈沖偏壓電源通過調整脈沖幅度、寬度和頻率等參數，以及利用電壓中斷期間的中和效應，有效地提高了離子的能量。這種提高離子能量的方式對于優化真空鍍膜等工藝中的薄膜質量和表面處理效果具有重要意義。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發、生產與銷售為一體的高科技企業，主要產品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業、iso9001認證，擁有專利多份。產品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
