作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2022-07-01
在了解了一般鍍膜之后，大家肯定愿意了解離子鍍膜是怎樣的呢？我們說離子鍍膜技術的過程有這樣的特點，也是在真空中進行的，但是他的工件要接單極性脈沖磁控電源的負極，也就是要接負偏壓，因此是這些鍍膜過程有以下新的特點：
1.由于有了高壓正極所以使在真空室中，電子就會被加速成為高能電子，當他與膜層原子相互碰撞時會產生碰撞電離進行氣體放電，以鈦原子為例，蒸發出來的鈦原子在離子鍍膜的環境中與高能電子產生碰撞變成鈦離子和多了一個電子形成等離子體，那么電子具有多高能量才能使鈦離子變成鈦原子呢？他的最低能量是6.83ev，1ev是1.16*10^4絕對溫度，也就是說1ev相當于11600溫度下的原子的能量，那么這個時候鈦離子被電離以后所具有的最低能量就是6.83ev。6.83ev相當7萬多度左右，而我們鈦離子的蒸發溫度也就是2千度左右，所以鈦離子的能量要比原子的高30多倍，因此離子鍍膜過程中，膜層離子的能量要比普通鍍膜是離子的能量高的多，以氬氣為例，說明原子的電離過程，氬氣在真空室中也會被高能電子電子成氬離子，形成氬的等離子體，這時候氬的能量就升高到了15.755ev，下面我們看一下氬原子的電離過程，這個動畫片示意的說明了氬原子的電離過程，氬原子有18個電子圍繞著原子核運動，他們的正負電荷是相等的，所以氬原子處于穩定狀態，當一個高能的電子和他碰撞的時候，把最外層電子打出去就一個缺失電子的氬離子，氬離子就處于高能狀態。
離子鍍膜技術的第二個特點：是離子被加速到達工件表面，鈦離子會被工件負偏壓吸引2.達到工件表面，由于負偏壓的吸引他的能量會提高，E=e*U,e是離子所帶的電荷量，U是工件所加的負偏壓，負偏壓越高離子的能量越大，所以離子鍍膜時到達工件表面，離子能量可高達10-500個電子伏特ev，高能離子到達工件表面形成膜層，由于自身能量高，形成化合物的時候不需要外界提供更多的熱能，所以可以降低獲得化合物的膜層的溫度，像離子鍍膜技術沉積氮化鈦的時候，他的溫度可以降低到500度以下，這兩個照片右上角的是在高速鋼刀工具下獲得氮化鈦硬質涂層，一般是在500度左右就能獲得氮化鈦硬質涂層，左下角的是裝飾層，在餐具手表衛生解決的表面要形成氮化鈦裝飾層的時候200多度就可以了，所以離子鍍膜技術一個最大的特點就是把形2.成化合物的溫度降低了。
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