作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2024-03-20
真空鍍膜電源控制沉積速率的方式主要是通過調節電源的輸出參數，如電壓、電流等來實現的。具體來說，電源可以提供負壓電場，該電場可以控制鍍膜材料在真空鍍膜過程中的沉積速率。通過調節電源的工作參數，如輸出電壓和電流的大小，可以精確控制鍍膜材料的蒸發或濺射速率，從而實現對沉積速率的控制。
此外，在真空鍍膜設備中，真空鍍膜電源通常與高頻電源配合使用。高頻電源用來產生高頻電場，使得材料以離子形式在真空室中沉積到基底表面上，而真空鍍膜電源(負壓直流電源)則用來控制沉積速率。通過合理調節高頻電源和真空鍍膜電源的工作參數，可以實現對薄膜性質(如沉積速率、薄膜厚度等)的控制和調節，從而滿足不同的應用需求。
需要注意的是，具體的控制方式和參數設置可能因不同的設備和工藝而有所差異，因此在實際操作中需要根據具體情況進行調整和優化。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發、生產與銷售為一體的高科技企業，主要產品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業、iso9001認證，擁有專利多份。產品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
