作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-09-05
為了獲得理想的鍍層質量和均勻性，一般會根據不同的靶材選擇不同的占空比。例如，在鍍金屬膜的過程中，通常要采用較低的占空比，以保證金屬沉積的均勻性和質量。通過工藝的調節找到一個平衡點，既能滿足膜層品質，又減少工件打火頻次，提高生產效率。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發、生產與銷售為一體的高科技企業，主要產品：中頻磁控濺射電源、單極性脈沖偏壓電源/雙極性脈沖偏壓、直流偏壓電源、直流磁控濺射電源、單極性脈沖磁控濺射電源，陽極電源、離子源電源、弧電源、高功率脈沖磁控濺射電源，HIPIMS電源等。已獲高新技術企業、iso9001認證，擁有專利多份。產品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業控制領域的解決方案。咨詢熱線：137-1700-7958
