作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-04-13
真空鍍膜過程是一種高精度、高效率的表面處理技術，在現代工業生產中被廣泛應用。然而，在進行鍍膜之前，需要對表面進行徹底的清洗，以保證膜層的附著力和穩定性。其中一種常用的清洗方法是輔助離子清洗。
輔助離子清洗是通過引入一定能量的離子束對樣品表面進行處理，以去除表面氧化層、氫化層和有機物質等，而且可在相對低溫下進行，避免對樣品造成熱損傷。該清洗方法常用于金屬、半導體、陶瓷等材料的表面處理，尤其適用于需要高度潔凈表面的真空鍍膜領域。
輔助離子清洗工藝主要由三個部分組成：離子源、清洗箱、能量調節器。離子源可以是離子槍或離子束源，用于生成離子束；清洗箱用于放置待清洗樣品，通常是真空箱內的一個密閉區域；能量調節器是用于調節離子束中的能量，以滿足樣品表面的不同需求。
在實際應用中，輔助離子清洗應注意以下幾點：首先，清洗時間應設定適當，過長會對樣品表面造成過度加工和減小表面純度的風險；其次，離子束的能量和濃度應適當調節，以保證清洗效果和對樣品的不良影響最小化；最后，不同樣品的材質和結構各異，需要根據實際情況進行合理的清洗工藝設計。
輔助離子清洗在真空鍍膜領域中是一個重要的表面處理技術，其能夠提高膜層附著力和品質，并大幅度減小表面缺陷和氣孔的產生率，從而獲得更加均勻、致密和具有高純度的膜層。
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