作者：深圳市英能電氣有限公司
時間：2023-04-12
真空鍍膜技術是一種非常重要的工業制造技術，可以制造出各種物品的表面涂層，比如光學元件、電子元器件、汽車零部件等。在真空鍍膜過程中，電源扮演著非常重要的角色。改變電源可以改變沉積規則，從而調整涂層的性質和特性。
其中最常見的電源是離子源。離子源工作時，通過引入高能離子束使得沉積物表面的蒸發度增大，從而加快涂層沉積速度。但是，不同的離子源會產生不同類型的離子束，利用不同類型的離子束可以選擇性地促進或者限制某些化學反應，達到控制涂層性質的目的。
另外一個重要的電源是磁控濺射源。磁控濺射技術利用高能離子束轟擊靶材，使得靶材表面的原子釋放出來，形成噴射流，最終沉積在基底上。通過改變濺射源的大小、形狀、材料等參數可以調整噴射流的能量和強度，從而影響涂層的成分和微觀結構。
真空鍍膜電源可以通過改變離子種類、束粒子能量和強度、噴射流強度等手段，實現對涂層沉積速度、成分、結構等性質的精細調控，是真空鍍膜技術不可或缺的重要組成部分。
深圳市英能電氣有限公司是一家集真空鍍膜電源/PVD鍍膜電源的研發、生產與銷售為一體的高科技企業，已獲得高新技術企業認定，通過iso:認證，擁有專利多份。產品已獲得ce、rohs認證。專注提供真空鍍膜電源及工業控制領域的解決方案。咨詢熱線：180-2547-6062
